SMC化學(xué)液用氣控閥 JLV系列

SMC最新推出的JLV系列化學(xué)液用氣控閥，通過(guò)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的創(chuàng)新優(yōu)化，顯著降低了閥門(mén)關(guān)閉過(guò)程中產(chǎn)生的沖擊，進(jìn)而有效減少微塵生成。該閥體精選高純PFA材質(zhì)，具備優(yōu)異的耐化學(xué)腐蝕性能，可適應(yīng)更高的工作壓力與背壓條件。在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上兼顧緊湊性與空間節(jié)約，適用于涂膠顯影、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）、清洗工藝、濕法蝕刻以及藥液輸送等各類濕法工藝環(huán)節(jié)，尤其可滿足28nm及以下更高精尖制程對(duì)微粒控制的嚴(yán)苛要求。

典型應(yīng)用場(chǎng)景包括蝕刻設(shè)備、CMP系統(tǒng)、涂膠顯影機(jī)及清洗裝置等。

其技術(shù)亮點(diǎn)主要包括：

微塵控制能力增強(qiáng)：通過(guò)對(duì)先導(dǎo)排氣結(jié)構(gòu)的優(yōu)化，顯著削弱了閥門(mén)閉合時(shí)的沖擊效應(yīng)。

材質(zhì)抗化學(xué)腐蝕：高純PFA確保其在多種化學(xué)液環(huán)境中保持穩(wěn)定。

結(jié)構(gòu)緊湊：有效節(jié)約設(shè)備安裝空間。

高壓適應(yīng)性提升：工作壓力與背壓范圍均實(shí)現(xiàn)擴(kuò)展并實(shí)現(xiàn)共通化設(shè)計(jì)。工作壓力覆蓋0–0.5 MPa（較以往產(chǎn)品最大提升66%），背壓支持0–0.5 MPa（較前代產(chǎn)品最大提高150%）。